مقاله بررسی اثر پخت بر ناهمواری سطوح لایه های نازک ITO تهیه شده با روش تبخیر با باریکه الکترونی از طریق تکنیک شمارش-جعبه که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در پاییز ۱۳۹۳ در فرآیندهای نوین در مهندسی مواد (مهندسی مواد مجلسی) از صفحه ۳۱ تا ۳۶ منتشر شده است.
نام: بررسی اثر پخت بر ناهمواری سطوح لایه های نازک ITO تهیه شده با روش تبخیر با باریکه الکترونی از طریق تکنیک شمارش-جعبه
این مقاله دارای ۶ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله لایه نازک
مقاله بعد فرکتال
مقاله ITO

نویسنده(ها):
جناب آقای / سرکار خانم: رئوفی داوود
جناب آقای / سرکار خانم: کلالی زهرا

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
در این پژوهش، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) به روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی بستره های شیشه ای در دمای اتاق تهیه شدند. در ادامه، یکی از لایه ها به عنوان مرجع نگه داشته شد و بقیه لایه ها در دماهای ۲۰۰oC و ۳۰۰oC مدت یک ساعت پخت شدند. مطالعه ساختاری و مورفولوژیکی لایه های نازک تهیه شده به ترتیب با تکنیک های پراش سنج پرتو-x و میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) انجام شد. روند تکامل ساختار سطح لایه ها در طول فرایندهای انباشت و پخت با روش های ریاضی بررسی گردید. بعد فرکتالی سطوح لایه های نازک ITO با استفاده از روش شمارش- جعبه به صورت تابعی از دمای پخت محاسبه شد. یافته ها نشان داد که پخت لایه ها باعث تغییر در ناهمواری سطح لایه های نازک در طول فرایند پخت می شود.