سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: اولین همایش ملی نانومواد و نانو تکنولوژی

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

مریم برادران – دانشگاه گیلان دانشکده علوم
فرهاد اسمعیلی قدسی –

چکیده:

دراین مقاله با وارد کردن نانوتخلخل در SiO2 اثر افزایش بازتاب درفیلتر بازتابنده ۹ لایه Si/(TiO2-SiO2 4Si/(TiO2-SiO2 درناحیه مادون قرمز بررسی می شود با استفاده از نظریه محیطموثر ضریب شکست موثر محاسبه می شود و نمودارهایبازتاب چگالی اپتیکی شدت میدان الکتریکی درلایه ها و ضخامت فیزیکی آن رسم و بررسی می شود میانگین بازتاب درناحیه ۱۰۰۰-۱۵۰۰ نانومتر ۹۸٫۵۱۱۴% بدست می آید.