سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: نوزدهمین کنفرانس مهندسی برق ایران

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

هومن نورائی – مجتمع برق و الکترونیک دانشگاه صنعتی مالک اشتر
محمدامین بصام –

چکیده:

یک سامانه لیتوگرافی لیزری برای تولید ماسک با دقت ۱ میکرون طراحی و ساخته شده است درساخت سکوی X-Y ازحسگر جابجایی تداخل سنج مایکلسون با دقت ۱۵۸/۲nm بعنوان فیدبک جابجایی استفاده شده است درسیستم خودکانون از روش مبتنی برروش آستیگماتیسم استفاده شده است حساسیت سیستم خودکانون ساخته شده حدود۲۰ mV/μm می باشد سرعت لیتوگرافی سامانه حدود ۱/۴۷mm/min و حداکثر ابعاد لیتوگرافی ۲×۲cm2 است سکوی سامانه قادر است تاجابجایی های ناخواسته ناشی از ضربه و نوسانات محیطی را بخوبی جبران واصلاح نماید پهنای خط متوسط سامانه ۱mm با غیریکنواختی کمتر از ۱۴% است.