سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: هشتمین سمینار ملی مهندسی سطح و عملیات حرارتی

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

مریم روزبهی – دانشجوی کارشناسی ارشد – دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک
پروانه سنگ پور – دانشجوی دکتری – دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک
امید اخوان – استادیار دانشگاه صنعتی شریف دانشکده فیزیک
علیرضا مشفق – استاد دانشگاه صنعتی شریف دانکده فیزیک و پژوهشکده علوم و فناوری نانوشر

چکیده:

در این تحقیق، ساخت نانو سیم های اکسید فلزی XnO، به وسیله مکانیزم رشد VLS (بخار- مایع- جامد) بر روی زیرلایه سیلیکان تک کریستال (Si(100، پوشیده از طلا (به عنوان کاتالیست) بررسی گردید. لایه کاتالیستی Au با دو ضخامت متفاوت ۷nm و ۱۵nm با استفاده از روش تبخیر حرارتی، بر روی زیر لایه Si نشانده شد. زیر لایه های با ضخامت متفاوت، در محیطی احیا کننده پخت گردیدند. این دو به همراه زیر لایه پخت نشده، در کنار پودر ZnO و در محیط گاز N2 تحت عملیات حرارتی قرار می گیرند. به منظور مشاهده نانو سیم های رشد داده شده و تعیین قطر و طول آنها از میکروسکوپ الکترونی روبشی SEM و برای بررسی توپوگرافی و ساختار سطحی لایه های کاتالیستی از میکروسکوپ نیروی اتمی AFM و برای تعیین ساختار شیمیایی سطح، از آنالیز XPS استفاده شده است. از بررسی تصاویر میکروسکوپ SEM و AFM ، به ترتیب قطر متوسط نانو سیم ها nm 70-100 طول متوسط آنها در حدود ۴µm و قطر متوسط نانو ذرات کاتالیستی ۷۰nm تشخیص داده می شود. همچنین تحلیل تصاویر آنالیز XPS وجود اکسید روی بر روی سطح را، اثبات می کند. مقایسه و تحلیل نتایج بدست آمده از دو زیر لایه با ضخامت های متفاوت طلا و دو زیر لایه هم ضخامت، نشان می دهد که با افزایش ضخامت لایه کاتالیستی، قطر نانو سیم ها افزایش می یابد و از سویی دیگر، پخت زیر لایه ها، سبب تولید نانوسیم هایی با توزیع یکنواخت قطری، بر روی سطح می شود.