سال انتشار: ۱۳۹۱

محل انتشار: اولین کنفرانس بین المللی مواد پیشرفته

تعداد صفحات: ۹

نویسنده(ها):

زهرا درخشی – دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران، دانشکده ی مواد و متالو
مرتضی تمیزی فر – دانشگاه علم و صنعت ایران
کاوه ارزانی – دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات تهران، دانشکده ی مواد و متالو
سعید باغشاهی – دانشگاه بین المللی امام خمینی

چکیده:

روش چاپ سیلک به عنوان روشی ساده، ارزان و با سرعت بالا در تولید، در تهیه ی لایه های ضخیم بسیار قابل توجه است. در این پژوهش، لایه ی ضخیم پروسکایت LaFeO3 با روش چاپ سیلک تهیه شد. به همین منظور، نانو پودر پروسکایتی LaFeO3 که یک اکسید نیمه رسانا است با ساختار اورتورومبیک از روش سل-ژل پچینی با استفاده از پیش ماده ه ای نیتراتی در دمای ۰۵۷ سنتز شد. خمیر)چسب( لایه ی ضخیم از مخلوط کردن پودر و محلول پلی وینیل الکل ) PVA ( به دست آمد. خمیر حاصله بر روی زیرپایه ی آلوم ینایی چاپ و در دمای ۰۵۷ پخت شد. نوع نیمه رسانا، ریز ساختار، آنالیز عنصری و میزان نفوذ به زیرپایه به ترتیب با استفاده از Sherescan ، SEM/EDX و Line Scan بررسی شد. ضخامت لایه ی ضخیم به دست آمده در حدود ۱۷ میکرون تخمین زده شد. نتایج حاصل از Line Scan لایه ی ضخیم نشان دهنده ی نفوذ عناصر لایه به زیرپایه و اتصال لایه به زیرپایه از طریق لایه ی بافر است. نوع نیمه رسانای لایه ی ضخیم، از طریق حفره )نوع p ( تشخیص داده شد.