سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: بیست و ششمین کنفرانس بین المللی برق

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

فاطمه دبیر – پژوهشگاه نیرو و دانشگاه تربیت مدرس
رسول صراف ماموری – دانشگاه تربیت مدرس
نسترن ریاحی نوری – پژوهشگاه نیرو

چکیده:

لایه های نیمه رسانای شفاف که به عنوان آند و کاتد در سلولهای خورشیدی مورد استفاده قرار میگیرند، دارای انواعمتفاوتی هستند که اکسید قلع دوپ شده با فلورین(FTO ) جزء رایجترین آنها ست. در این مقاله لایه ناز کFTO به دو روش مختلف چاپ توری و پیرولیز پاششی بر روی زیرلایه شیشهای پوشش داده شد. نتایج حاصل نشان داد که روش چاپ توری برای لایه نشانیFTO به منظور کاربرد سلولخورشیدی مناسب نمی باشد.برای لایه نشانیFTO به روش پیرولیز پاششی، دمای زیرلایه شیشه ای ۴۵۰Cانتخاب شد. لایه های به دست آمده با روش پیرولیز پاششی، در منطقه مرئی Ω/□ ۳۰رانور خورشید شفاف بوده و مقاومت سطحی حدود نشان دادند که برای کاربرد سلول خورشیدی مطلوب میباشد.