سال انتشار: ۱۳۸۹

محل انتشار: چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و جامعه علمی ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۲

نویسنده(ها):

فاطمه نجف زاده بختیارانی – دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده فنی و مهندسی و عضو انجمن پژوهشگران جوا
رامین رئیس زاده – استادیار بخش مهندسی مواد و متالورژی و پژوهشکده صنایع معدنی دانشگاه ش

چکیده:

در این تحقیق، احتمال پیوند دولایه از عیب اکسید فیلم دوتائی هنگامیکه در مذاب آلیاژ Al-4.5wt% Mg نگه داشته شوند، مورد بررسی قرار گرفته است. عیب اکسید فیلم دولایه به وسیله نگهداری دولایه اکسید آلومینیوم در تماس با همدیگر و اتمسفر محبوس بین آنها در مذاب آلیاژ Al-4.5wt% Mg برای مدت زمانهای متفاوت از ۲ دقیقه تا ۱۶ ساعت به صورت تجربی مدل سازی شد. تغییرات صورت گرفته در ترکیب و مرفولوژی این لایه های اکسیدی به وسیله EDX و SEM مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان دادند که برخلاف بررسیهای پیشین بر روی Al-0.3wt% Mg ، که در آن دولایه بعد از زمان نگهداری ۵ ساعت با همدیگر پیوند برقرار کردند، در این تحقیق پیوندی مابین دولایه اکسیدی حتی بعد از زمان نگهداری ۱۶ ساعت اتفاق نیفتاد. براساس نتایج این دو بررسی، عدم تشکیل پیوند بین دو لایه اکسیدی در مذاب آلیاژ Al-4.5wt% Mg به فقدان یک استحاله فازی در سطح لایه های اکسیدی که منجر به آرایش مجدد مولکولها شود، نسبت داده شده است.