سال انتشار: ۱۳۸۹

محل انتشار: سیزدهمین همایش ملی بهداشت محیط

تعداد صفحات: ۱۷

نویسنده(ها):

حسین معصوم بیگی – استاد گروه بهداشت محیط دانشگاه بقیه ا…
عباس رضایی – دانشیار گروه بهداشت محیط و حرفه ای دانشگاه تربیت مدرس
علیرضا ختائی – استادیار گروه شیمی کاربردی دانشکده شیمی دانشگاه تبریز
سید جمال الدین هاشمیان – دانشیار پژوهشکده آب و انرژی دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

فرایندهای فتوکاتالیستی ، یک تکنولوژی جدید و با کاربردهای فراوان می باشند . امروزه این فرایندها بخصوص د ربخش آب ، در حال تحقیق و توسعه هستند. هدف از انجام این تحقیق مطالعه حذف فتوکاتالیستی باکتری استرپتوکوکوس فکالیس به کمک نانو ذرات اکسید روی تثبیت شده بر روی صفحات شیشه ای ، می باشد. روش بررسی: ویژگیهای نانو ذرات اکسید روی با استفاده از میکروسکوپ الکترونی (SEM) مجهز به سیستم EDX و روش تفرق اشعه ایکس (XRD) تعیین گردید. نانو ذرات اکسید روی به روش حرارتی بر روی صفحات شیشه ای تثبیت شد. نمونه های آب حاوی مقادیر مختلف از باکتری استرپتوکوکوس فکالیس در معرض شدت تابش های مختلف قرار داده شد و اثر نوع پرتو فرابنفش ، شدت تابش ، مدت تابش ، تعداد اولیه باکتری و شدت جریان راکتور در حذف فتوکاتالیستی این باکتری مورد مطالعه قرار گرفت. یافته ها : کارائی راکتور با افزایش شدت تابش و مدت تابش افزایش و با افزایش تعداد باکتری ها ، کاهش می یابد . افزایش تعداد لایه های تثبیت شده نانو ذرات اکسید روی هم تاثیری در افزایش کارائی فرایند ندارد . بهترین حذف فتوکاتالیستی استرپتوکوکوس فکالیس با استفاده از یک لایه نانو ذرات تثبیت شده تحت تابش ۳۶۰μW.s/cm2 بدست آمد. نتیجه گیری : فرایند فتوکاتالیستی به کمک نانو ذرات تثبیت شده اکسید روی تحت تابش پرتو UVA قادر به حذف باکتری استرپتوکوکوس فکالیس از آب ، با یک شدت تابش حداقل ۱۴۰μW.s/cm2 تحت شرایط این مطالعه می باشد. این تکنولوژی هنوز هم تحت توسعه قرار دارد و نیازمند مطالعه بیشتر است.