سال انتشار: ۱۳۸۹

محل انتشار: چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و جامعه علمی ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

ارسطو تیموری – دانشجوی کارشناسی ارشد، دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده مهندسی و علم مواد
مسعود عسکری – استادیار،دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

در این پژوهش به بررسی اثر زیرلایههای مختلف(سیلیکون (۱۰۰) ، (۱۱۱) و آلومینا) و خواص ساختاری ورفتاری آنها برنحوهی رشد و مورفولوژی نانوسیمهای سیلیکا پرداخته شدهاست. بررسی سطوح حاصل از پوشش طلا بر روی زیرلایههای مختلف، همچنین نحوهی توزیع و میزان کرویت قطرات طلا و در نهایت تحلیل خصوصیات نانوسیمهای سیلیکای تولیدشده به روش بخار-مایع-جامد با کمک میکروسکوپ الکترونی روبشی و آنالیز تفرق اشعه ایکس صورت گرفت. رشد نانوسیمهای سیلیکا با استفاده از فرایند بخار-مایع-جامد و بهکمک واکنش احیای کربوترمال در دمای کاری ۱۱۵۰-۱۰۰۰ درجه سانتی گراد انجام گرفت. پس از بررسیهای صورت گرفته زمان پوششدهی بهینه ی طلا برای زیرلایههای مختلف ۱ دقیقه بهدست آمد. با توجه به این که شکل و اندازهی قطرات طلا به جنس زیرلایه و جهت کریستالی آن وابسته است طی آزمایشات انجام شده ویفرسیلیکونی ( ۱۱۱ ) بهترین سطح را برای رشد نانوسیم با کمترین قطردارا بود. قطر نانوسیمهای بهدست آمده بهاین روش بین ۹۰-۳۰ نانو متر قرار گرفت.