مقاله تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در پاییز ۱۳۹۱ در پژوهش فیزیک ایران از صفحه ۲۴۵ تا ۲۵۱ منتشر شده است.
نام: تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع
این مقاله دارای ۷ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO)
مقاله لایه نازک
مقاله آنالیز فرکتالی
مقاله مورفولوژی

نویسنده(ها):
جناب آقای / سرکار خانم: حسین پناهی فایق
جناب آقای / سرکار خانم: رئوفی داوود

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه ها ۱۰۰، ۱۵۰ و ۲۵۰ نانومتر می باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات مورفولوژیکی سطح در حالت آمورف مورد بررسی قرار گرفت. مشاهده شد که با افزایش ضخامت، ناهمواری سطح W(RMS) و طول همبستگی عرضی V کاهش پیدا می کند. همچنین، نمای ناهمواری a و نمای رشد b به ترتیب برابر a=0.72±۰٫۰۱ و b=0.11±۰٫۰۱، به دست آمد. بر اساس این نتایج، دریافتیم که فرآیند رشد لایه ها را می توان به صورت ترکیبی از مدل های خطی EW و پخش سطحی مولینز توصیف نمود.