سال انتشار: ۱۳۸۹

محل انتشار: چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و جامعه علمی ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

آرش فتاح الحسینی – استادیار ، دانشگاه بوعلی سینا همدان
احمد ساعتچی – استاد ، دانشگاه صنعتی اصفهان
محمد علی گلعذار – استاد ، دانشگاه صنعتی اصفهان
کیوان رئیسی – دانشیار ، دانشگاه صنعتی اصفهان

چکیده:

آزمون موت-شاتکی یکی از روش های تعیین نوع -n و یا نوع -p بودن رفتار نیمه هادی لایه رویین و بررسی عیوب موجود در آن است. در این تحقیق ، تاثیر پتانسیل بر عیوب نقطه ای تشکیل شده در لایه رویین فولاد زنگ نزن L 316 در محلو ۰/۰۵ مولار اسید سولفوریک برررسی شد. برای تشکیل لایه رویین در بازده پتانسیلی ۰/۲- تا ۰/۸VSCE ، فاصله ها ۰/۱V انتخاب و نمونه ها در پتانسیل های تشکیل مربوطه به مدت ۶۰ دقیقه نگه داری شدند. نتایج آزمون موت- شاتکی نشان داد که رفتار نیمه هادی لایه رویین تشکیل شده تا پتانسیل ۰/۶VSCE ، به علت چگالی بیش تر دهنده های الکترونی (ND) نسبت به گیرنده های الکترونی (NA) ، نوع -n میباشد . در حالی که در پتانسیل های بالاتر ، به علت افزایش انحلال کاتیون های آهن و کروم که منتج به افزایش چگالی جاهای خلی کاتیونی می شود و همچنین کاهش غلظت بین نشین های کاتیونی ، رفتار نیمه هادی لایه رویین به نوع -p تبدیل شد. همچنین نتایج آزمون موت- شاتکی نشان داد که با افزایش پتانسیل لایه رویین تا ۰/۶VSCE ، مقادیر چگالی دهنده های الکترونی به طور توانی کاهش می یابد.