سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: اولین همایش ملی نانومواد و نانو تکنولوژی

تعداد صفحات: ۶

نویسنده(ها):

فریبا قاسم پور – مرکز تحقیقات علوم پلاسما دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران
روح اله عظیمی راد – پژوهشکده فیزیک دانشگاه صنعتیمالک اشتر

چکیده:

دراینمقاله رشد نانوسیم های اکسید تنگستن درحضور هیدروکسید پتاسیم ۰/۷ مولار به عنوان کاتالیست برروی ورق تنگستن طی دومرحله حرارت دهی بررسی می شود نمونه ها درمرحله اول دردمای ۳۹۰ درجه و سپس در مرحله دوم دردمای ۶۰۰ درجه سانتی گرادحرارت داده می شوند مرحله اول مرحله ای تعیین کننده برای رشد نانوسیم ها می باشد زیرا باعث می شود تا هیدروکسید پتاسیم بطور تقریبا یکنواخت روی ورق تنگستن پخش شده و زمینه رشد نانوسیم ها مهیا می شود سازوکار رشد نانوسیم ها به صورت بخار – مایع ت جامد VLS می باشد نانوسیم های تولید شده در زمانهای مختلف درمرحله دوم حرارت دهی توسط آنالیزهای مختلفی از قبیل XRD / FE-SEM و XPS مورد مطالعه قرارگرفتند بهترین زمان برای رشد مناسب زمان ۲ ساعت دردمای ۶۰۰درجه می باشد که قطر نانوسیم ها درحدود ۹۰-۵۰ نانومتر و طول آنها تا چندمیکرومتر تخمین زده شده است اکثریت نانوسیم های رشد یافته ساختاری بلوری راست لوزی K2W6O19 درراستای صفحه ۰۰۲ را دارند