سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: اولین همایش ملی نانومواد و نانو تکنولوژی

تعداد صفحات: ۷

نویسنده(ها):

معصومه نجارصادقی – دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرج دانشکده علوم گروه فیزیک
فاطمه حاج اکبری –
علیرضا هژبری –
فتانه امین نژاد –

چکیده:

دراین تحقیق تاثیر زمان بازپخت روی خواص لایه های مس تهیه شده توسط روش کندوپاش مغناطیسی DC مورد بررسی قرارگرفت لایه های نازک مس برروی زیرلایه های سیلیکان دریک شرایط ثابت توسط کندوپاش مغناطیسی مسطح به کمک جریان مستقیم Dc انباشت شد سپس لایه های مس انباشت شده درزمان های متفاوت تحت اتمسفر هوا بازپخت شد اثر زمان بازپخت را برروی ساختار مورفولوژی و خواص الکتریکی لایه های نازک مس درزمان های متفاوت بازپخت مورد بررسی قراردادیم ساختار لایه های نازک مس با استفاده از پراش اشعه x مورد ارزیابی قرار گرفت طرح پراش اشعه x از لایه های نازک مس پس از بازپخت نشان میدهد فاز CuO) درراستای کریستالی ۱۱۱ غالب است همچنین مورفولوژی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی AFM مورد مطالعه قرارگرفت. بازپخت نمونه ها در زمان های متفاوت رشد لایه به صورت کپه ای شده و زبری سطح افزایش یافته است.