مقاله بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن که چکیده‌ی آن در زیر آورده شده است، در بهار ۱۳۹۲ در شیمی و مهندسی شیمی ایران از صفحه ۲۵ تا ۳۴ منتشر شده است.
نام: بهینه سازی پارامترهای موثر در فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری برای حذف اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن
این مقاله دارای ۱۰ صفحه می‌باشد، که برای تهیه‌ی آن می‌توانید بر روی گزینه‌ی خرید مقاله کلیک کنید.
کلمات مرتبط / کلیدی:
مقاله اکسی تتراسایکلین
مقاله اکسایش نوری
مقاله نانو ذره های آهن
مقاله طول موج بیشینه

نویسنده(ها):
جناب آقای / سرکار خانم: حسن زاده پریسا
جناب آقای / سرکار خانم: گنجی دوست حسین
جناب آقای / سرکار خانم: آیتی بیتا

چکیده و خلاصه‌ای از مقاله:
با توجه به مشکل ساز بودن دفع مستقیم پساب دارای آنتی بیوتیک ها به محیط زیست و بروز مشکل های جدی در محیط همانند مقاومت ژنتیکی، تصفیه پساب این صنایع از اهمیت ویژه ای برخوردار است. در این پژوهش افزون بر بررسی تصفیه پذیری یکی از پرمصرف ترین آنتی بیوتیک ها، اکسی تتراسایکلین توسط نانو ذره های آهن، قابلیت اکسایش و فتوکاتالیستی لایه آهن اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره های آهن نیز بررسی شد. ابتدا پارامترهای موثر در حذف اکسی تتراسایکلین توسط فرایند تلفیقی اکسایش و اکسایش نوری بررسی و بهینه شدند که طبق نتیجه های به دست آمده در شرایط بهینه، از نانو ذره های آهن با غلظت ۱۰۰۰ mg/L برای حذف ۱۵۵ mg/L اکسی تتراسایکلین در pH برابر ۳، تابش UV با توان ۲۰۰ W در مدت زمان ۶٫۵ ساعت استفاده شد که مقدارهای حذف در طول موج های ۲۹۰ و ۳۴۸ نانومتر، TOC و COD به ترتیب ۸۷، ۹۵، ۸۵ و ۸۹ درصد به دست آمدند. پس از گذشت ۱۴ ساعت، میزان همه این پارامترها بیانگر تجزیه کامل اکسی تتراسایکلین بود. همچنین طبق نتیجه آنالیز XRD، FeO و FeOOH، لایه اکسید تشکیل شده بر سطح نانو ذره ها شناسایی شده و اثرهای مثبت فتوکاتالیستی آن در فرایند حذف توسط آزمایش های شاهد مورد بررسی قرار گرفت. بررسی اثر جداگانه هوادهی، پرتودهی فرابنفش و اکسایش توسط نانو ذره های آهن در تاریکی و مقایسه نتیجه ها با شرایط تلفیقی (نانو ذره های آهن در مجاورت تابش فرابنفش) نشان دهنده برتری فرایند تلفیقی در فرایند حذف بود.