سال انتشار: ۱۳۸۷

محل انتشار: دومین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

لیلا سلیمانی – دانشجوی کارشناسی ارشد ، دانشکده مهندسی و علم مواد- دانشگاه صنعتی شریف
ابوالقاسم دولتی – دانشیار، دانشکده مهندسی و علم مواد- دانشگاه صنعتی شریف
محمد قربانی – استاد، دانشکده مهندسی و علم مواد- دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

در این تحقیق فرآیند رسوبدهی الکتروشیمیایی نانووایرهای طلا در تمپلیت پلی کربناتی با حفرات ۸۰ نانومتری در حمام آبی حاوی دی سیانورات پتاسیم مطالعه شده است. از منحنی های ولتامتری سیکلی ,کرونوآمپرومتری و بررسیهای کرونوپتانسیومتری برای مطالعه مکانیزم های رسوبدهی استفاده شد. بررسی منحنی های ولتامتری نشان میدهند که رسوبدهی الکتروشیمیایی نانووایرها طلا در دانسیته جریانهای پایین بعلت حضور ترکیبات حاوی CN- برروی سطح و در دانسیته جریانهای بالا بر اثر کاهش مستقیم Au(CN)2- به طلای فلزی صورت میگیرد. با توجه به نمودارهای کرونوآمپرمتری مکانیزم جوانه زنی و رشد رسوبات از نوع لحظه ای سه بعدی بوده و رسوبدهی به طریقه دیفوزیونی کنترل میگردد . مقدار دانسیته جوانه های اولیه و مقدار ضریب دیفوزیون نیز محاسبه گردیده و مشاهده شد که ضریب دیفوزیون طلا با کاهش غلظت محلول کاهش یافته و دانسیته محلهای جوانه زنی با افزایش پتانسیل اضافی و کاهش غلظت محلول کاهش می یابد . مورفولوژی رسوبات نیز توسط میکروسکوپ SEM بررسی گردید