سال انتشار: ۱۳۸۶

محل انتشار: اولین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و انجمن ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

فاطمه بقایی راوری – عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
اطهره دادگری نژاد – عضو هیئت علمی بخش مهندسی متالوژی دانشگاه شهید باهنر کرمان

چکیده:

مطالعه بازدارندگی دوشیف باز با نامهای bis-(2-hydroxy-3-methoxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine و bis-(2-hydroxy)-1,6-diaminohexane salicyladimine روی مس دراسید سولفوریک نیم مولار با استفاده از روشهای الکتروشیمیایی AC امپدانس و پلاریزاسیون تافل انجام شده است نتایج بدست آمده از منحنیهای نایکوئیست نشان میدهد که افزایش غلظت این دو شیف باز باعث افزایش مقاومت انتقال بار و کاهش ظرفیت لایه دوگانه و درنتیجه باعث افزایش راندمان حفاظت آنها برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار شده است این دو شیف باز ممانعت کننده های مناسبی برای مس دراسید سولفوریک نیم مولار هستند و هر دو ماده از نوع ممانعت کننده های آندی می باشند و بصورت جذب شیمیایی برروی سطح مس مانع از خوردگی آن می شود و این دو شیف باز از جذب ایزوترم لانگمیر پیروی می کنند.