سال انتشار: ۱۳۹۱

محل انتشار: اولین همایش بین المللی و ششمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

یلدا نامخواه – کارشناس ارشد مهندسی مواد-سرامیک، دانشگاه صنعتی شریف
محمدعلی فقیهی ثانی – دانشیار دانشکدهی مهندسی و علم مواد، دانشگاه صنعتی شریف

چکیده:

فعالیت فوتوکاتالیستیTiO2تحت تابش نور بستگی به انرژی باند ممنوعه دارد. باتوجه به شدت اندک نور خورشید در محدودهی UV-Vis و با توجه به این که باند ممنوعهTiO2بالاتر از۳evاست، تلاشهای زیادی جهت کاهش مقدار باند ممنوعه انجام شده است. در این پژوهش با استفاده از آلایندهیوانادیم کوشش شده است تا باند ممنوعهی پوششهای نانوساختاریTiO2به مقادیر پایینتری کاهش یابد. پوششها به روش سل-ژل غوطهوری بر روی زیرلایههای سودالایم و کوارتز سنتز گردید. بعد از عملیات حرارتی نانوپوششها در دمای۴۵۰ ، رفتار کریستالیزاسیون توسط پراش اشعهی(XRD) X مورد مطالعه قرار گرفت و مشاهده شد که پوششهای پخت شده در دمای فوق دارای فاز آناتاز هستندجهت مطالعه و ارزیابی خواص نوری، طیف بینی عبوریUV-Vis بر روی نمونهها انجام شد و مشاهدهشد که طیف حاصل از پوششهای دارای وانادیم در مقایسه با پوششهای تیتانیای خالص دارای انرژی باند ممنوعه کمتری هستند که در مقدار بهینه وانادیم باند گپی برابر با۲/۷۷ev حاصل گردید.