سال انتشار: ۱۳۹۱

محل انتشار: اولین همایش بین المللی و ششمین همایش مشترک انجمن مهندسی متالورژی ایران

تعداد صفحات: ۷

نویسنده(ها):

اطهره دادگری نژاد – هیات علمی بخش متالورژی دانشگاه شهید باهنر کرمان
فاطمه بقایی راوری –

چکیده:

رفتار الکتروشیمیایی برنج در محیط اسیدکلریدریک در حضور یک ممانعت کننده آلی به روشهای پلاریزاسیون تافلACامپدانس و کاهش وزن مورد مطالعه وبررسی قرار گرفت. نتایج نشان داد که این مما نعت کننده از نوع آ ندی بوده و افزایشغلظت ممانعت کننده باعث افزایش مقاومت پولاریزاسیون و کاهش ظرفیت خازنی ودر نتیجه کاهش دانسیته جریان خوردگی میشود. محلولهای الکترولیت بعد ازآزمایشات الکتروشیمیایی با دستگاه جذب اتمیAAS)آنالیزو ضریب زدایش روی محاسبه گردید.همچنین سطح نمونه ها بعد ازآزمایشات الکتروشیمیایی با میکروسکوپ الکترونیSEM) مطالعه وبه روشEDS)آنالیز شدند . نتایج آنالیز محلولی و سطح نیز نشان داد که در حضور ممانعت کننده حلالیت عناصرZn و Cu در آلیاژ کمتر شده که علت آن بوجود آمدن پوشش محافظ و منسجم توسط بازدارنده بر روی سطح فلز می باشد.