سال انتشار: ۱۳۹۱

محل انتشار: سومین کنفرانس بین المللی عملیات حرارتی مواد

تعداد صفحات: ۴

نویسنده(ها):

حمیرا جمالی – پژوهشگاه مواد و انرژی
محمدرضا واعظی –
علی خانلرخانی –

چکیده:

در سال های اخیربه تقلید از سطوح خود تمیزشونده طبیعی تحقیقات فراوانی برای ساخت سطوح آبگریز مصنوعی با تکنیک های مختلف انجام گرفته است؛ به طوری که پوشش های آبگریز بر اساس ترکیبات آلی، معدنی و هیبریدهای آلی – معدنی تهیه شده اند. در پژوهش حاضر، لایه سیلیکای آبگریز هیبرید آلی – معدنی با فرایند سل – ژل و پوشش دهی به روش غوطه وری تهیه شد. محلول سل طی واکنش هیدرولیز و کندانس شدن تترا متوکسی سیلان TMOS) رقیق شده در متانول در حضور اسید استیک به عنوان کاتالیست و دی متیل اکتا دسیل ( ۳-(تری متوکسی سیل)پروپیل آمونیوم کلریدAEM)به عنوان عامل آبگریز، در دمای اتاق۲۷تهی ه وب ا رو ش ساد ه غوط ه ور ی بر روی زیر لایه شیشه سودالایم پوشش داده شد. بررسی خواص آبگریزی با تغییر دمای آنیل انجام گرفت، که بیشترین آبگریزی در دمای۱۶۰به دستآمد. مرفولوژی لایه تهیه شده و اصلاح شیمیایی سطح TMOS بهترتیب توسط ، میکروسکوپ نیروی اتمیAFM) و طیف سنجمادون قرمز تبدیل فوریهFT-IR مطالعه شد. بررسی خواص آبگریزی و پایداری حرارتی از طریق اندازه گیری زاویه ی تماسقطره آب و آنالیز حرارتیSTA مورد بررسی قرار گرفت.