سال انتشار: ۱۳۸۹

محل انتشار: چهارمین همایش مشترک انجمن مهندسین متالورژی و جامعه علمی ریخته گری ایران

تعداد صفحات: ۱۲

نویسنده(ها):

فاطمه نجف زاده بختیارانی – دانشجوی کارشناسی ارشد دانشکده فنی و مهندسی و عضو انجمن پژوهشگران جوا
رامین رئیس زاده – استادیار بخش مهندسی مواد و متالورژی و پژوهشکده صنایع معدنی دانشگاه ش

چکیده:

در این تحقیق، احتمال ترمیم عیب اکسید فیلم دولایه هنگامی که در مذاب آلومینیوم با خلوص تجاری نگه داشته شوند، مورد بررسی قرار گرفته است. این عیب توسط نگهداری دو لایه اکسید آلومینیوم در تماس با یکدیگر در مذاب آلومینیوم خالصدر دمای ۷۵۰°C برای مدت زمانهای ۷ دقیقه تا ۴۸ ساعت به صورت تجربی مدلسازی شد. تغییرات صورت گرفته در ترکیب و مورفولوژی لایه های اکسیدی به وسیله SEM و EDX مورد مطالعه قرار گرفتند. نتایج نشان دادند که پیوند ما بین دولایه اکسیدی تقریباً بعد از ۵ ساعت شروع شد که در نتیجه استحاله γ – Al2O3 به α – Al2O3 بوده و به تدریج با گذشت زمان نگهداری افزایش یافت. پیوند کامل بین لایه ها بعد از ۱۳ ساعت، وقتی که اکسیژن و نیتروژن محبوس بین دولایه مصرف شدند، تشکیل شد. نتایج همچنین نشان دادند که نیتروژن اتمسفر محبوس در عیب با مذاب Al پیرامون واکنش داده و AlN در فصل مشترک عیب و مذاب تشکیل شد.