سال انتشار: ۱۳۹۱

محل انتشار: اولین کنفرانس بین المللی نفت، گاز، پتروشیمی و نیروگاهی

تعداد صفحات: ۱۰

نویسنده(ها):

جواد رشید – کارشناس ارشد، دانشکده مهندسی مکانیک دانشگاه شیراز
منصور طالبی – استادیار، پژوهشگاه علوم و فنون هسته ای اصفهان
کمال حداد – استاد، بخش مهندسی هسته ای دانشگاه شیراز
جواد مرادقلی – دکتری

چکیده:

مطالعه آزمایشگاهی بر روی ضریب انتقال حرارت جابجایی در یک لوله حلقوی عمودی با شار غیر یکنواخت(شار کسینوسی) در ناحیه در حال توسعه جریان آرام برای نانوسیالAl2O 3آب با قطر متوسط ۲۰ نانو متر انجام شد. هدف اولیه این تحقیق بررسی ضریب انتقال حرارت نانوسیال با عدد پکلت بود که مشخص گردید با افزایش عدد پکلت ضریب انتقال حرارت نیز افزایش می یابد و این افزایش در غلظت های بالا مشهودتر بود.اثر دمای ورودی نانوسیال بر ضریبانتقال حرارت بررسی گردید و مشخص شد که با افزایش دمای ورودی نانوسیال، ضریب انتقال حرارت بهبود می یابد واین افزایش در رینولدزهای بالا چشمگیرتر بود. ضریب انتقال حرارت محلی هم به دلیل شار کسینوسی ابتدا افزایش یافت و سپس یک روند کاهشی را طی کرد.افت فشار نسبی نانوسیال بررسی گردید و مشخص شد که با افزایش دمای ورودی نانوسیال، افت فشار نسبی نانوسیال کاهش می یابد ولی با افزایش هر چه بیشتر دما این شیب کاهشی به دلیل حرکت براونی نانوذره کاهش می یابد