سال انتشار: ۱۳۹۰

محل انتشار: اولین همایش ملی نانومواد و نانو تکنولوژی

تعداد صفحات: ۸

نویسنده(ها):

سکینه شیرولیلو – دانشجوی کارشناسی ارشد فیزیک

چکیده:

چکیده فلز روتینوم جزو گروه فلزات نجیب می باشد این گروه از فلزات داشتن دمای ذوب بالا خاصیت سدی درمقابل نفوذ اکسیژن و تابع کاربالا فلزاتی ایده آل برای کاربرددرمدارهایم جتمع می باشند فرایندهای ALD برای روتنیوم برپایه واکنش پیش ماده فلز با اکسیژن درمحدوده دمایی ۴۵۰-۲۰۰درجه سانتی گراد مورد مطالعه قرارگرفته اندو نتایج زیرحاصل شده است فیلمهای روتنیوم فلزی با مقاومت ویژه پایین و محتوای ناخالصی اندک از یک چرخه pentadieny1 با پیش ماده RuCP2 رشدمی یابند درصورتیکه فیلمهای روتنیوم رشد یافته از β-diketonato با پیش ماده Ru(thd)3 مقاومت ویژه بالا محتوای ناخالصی بالا و زمان درنگی طولانی در شروع رشد فیلم دارند اکثر دستگاه های نانوالکترونیکی روی مدارهای مجتمع ساخته می شوند که مجموعه ای از قطعاتی مثل ترانزیستور خازن و مقاومت هستند دراین مقاله تاکید برمکانیسمهای واکنش و محدودیت ها جریان نشتی ،الکترودها و فصل مشترک آنها و تکنیکهای موثر لایه نشانی می باشد.